플라즈마 산화막 청소(POC)
플라즈마 산화막 청소(POC)는 증착 공정 전에 실리콘 표면상에 형성된 자연 산화막과 같은 불필요한 산화막을 제거하는 과정입니다. POC는 Plasma oxide cleaning의 약어로, 이 과정은 Dry Strip 장비를 사용하여 수행됩니다.
Dry Strip 장비는 메모리와 비메모리 분야 모두에서 널리 사용되며, 특히 NAND 플래시 메모리의 고층화에 따른 수요가 증가하고 있습니다. 피에스케이(FSK)는 Dry Strip 장비 시장에서 세계 1위의 점유율을 보유하고 있습니다. 이 장비는 포토공정에서 필수적인 역할을 수행합니다.
1. 플라즈마 산화막 청소 (POC)
POC(Plasma oxide cleaning)는 실리콘 표면에 형성된 자연적인 산화막과 공정 중 생성되는 불필요한 산화막을 증착 공정 전에 제거하는 공정입니다. POC는 실리콘 표면을 활성화하고, 이후의 증착 공정에 대한 접착력을 향상시키는 데 사용됩니다. 플라즈마는 산소나 수소와 같은 기체를 이온화하여 생성되는 고에너지 흐름으로, 실리콘 표면의 산화막을 효과적으로 제거하는 데 사용됩니다.반도체 제조 공정을 위한 장비와 부품의 제조, 판매, 고객지원이 주요 사업 영역입니다. 이 회사는 전자 공시에서 자신을 다음과 같이 설명하고 있습니다.
피에스케이 주요 사업
피에스케이의 가장 주요 사업은 반도체 제조장비와 관련되어 있으며, 전공정 장비 및 부품의 제조, 판매, C/S를 담당합니다. 전자공시에 따른 회사 개요는 다음과 같습니다.
피에스케이는 반도체 후공정 업체인 한미반도체와 네패스와는 달리 전공정 장비 업체로, 요즘 반도체 관련 주식이 주목받고 있는 가운데 주요 업체로 손꼽힙니다.
디바이스이엔지는 디스플레이 및 반도체 제조에 필수적인 기계 장비인 오염제어장비를 생산하는 글로벌 기업입니다.
이 회사의 주력 제품으로는 OLED 디스플레이용 FM MASK Strip 장비와 광학검사 장비, 반도체 메모리용 FOUP 세정장비 등이 있습니다. 이러한 장비는 전자기기 제조 공정에서 오염을 제거하고 제품의 품질과 수율을 높이는 데 사용됩니다.
디바이스이엔지는 기계 장비 세정 시스템 분야에서 시장 점유율이 높고, 첨단 기술과 혁신적인 솔루션으로 글로벌 반도체 및 디스플레이 산업에서 선도적인 공급업체로 자리매김하고 있습니다.
기계 장비 세정 1
이 글은 경제·산업·기업 등을 공부하면서 알게 된 내용을 요약하여 쓴 것입니다.
디바이스이엔지는 디스플레이 및 반도체용 오염제어장비를 생산하고 있으며, 매출 비율은 각각 99.95%, 0.05%입니다. 주요 제품으로는 OLED 디스플레이용 FM MASK Strip 장비, 광학검사 장비, 반도체 메모리용 FOUP 세정장비가 있습니다.
디바이스이엔지는 사업을 다각화하기 위해 다음과 같은 노력을 하고 있습니다.
- 기존 제품의 성능 향상
- 신제품 개발
- 새로운 시장 진출
| 제품 | 세부 사항 |
|---|---|
| OLED 디스플레이용 FM MASK Strip 장비 | OLED 디스플레이 제조 공정에서 사용되는 장비 |
| 광학검사 장비 | 디스플레이 패널의 결함을 검사하는 장비 |
| 반도체 메모리용 FOUP 세정장비 | 반도체 메모리 제조 공정에서 사용되는 장비 |
디바이스이엔지는 기계 장비 세정 과정의 핵심 고유 기술인 오염 제어 기술에 기반을 두고 고성능 세정 장비인 스트립 장비(Strip Equipment)를 제작하여 공급하고 있습니다. 이 장비는 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이의 제조 공정에 사용되며, 특히 강성과 유연성을 가진 OLED 디스플레이뿐만 아니라 메모리와 시스템 LSI 반도체의 제조 공정에도 활용되고 있습니다. 디바이스이엔지는 2002년에 반도체와 디스플레이 장비 제조 및 판매를 목적으로 설립되었으며, 2017년에 코스닥 시장에 상장하여 기업의 안정성과 성장 가능성을 입증했습니다. 지속적인 혁신과 고객 중심의 서비스를 바탕으로 디바이스이엔지는 반도체와 디스플레이 산업에서 선도적인 공급업체로 자리매김하고 있습니다.
기계 장비 세정 2
디바이스이엔지는 반도체와 디스플레이 장비 제조 및 판매를 목적으로 2002년에 설립되었습니다. 2017년 코스닥시장에 상장했습니다. 디바이스이엔지는 세정 공정의 핵심 고유 기술인 오염 제어 기술을 기반으로 Rigid와 Flexible OLED 디스플레이와 메모리와 시스템 LSI 반도체용 제조 공정에 사용되는 Strip 장비를 제작하여 공급하고 있습니다. 디바이스이엔지는 고객의 다양한 니즈에 맞는 맞춤형 제품과 솔루션을 제공하는 데 전념하고 있으며, 첨단 기술과 혁신에 대한 끊임없는 추구를 통해 글로벌 시장에서 경쟁력 있는 기업으로 성장하고 있습니다.
디바이스이엔지의 핵심 기술은 오염 제어 기술입니다. 이 기술은 반도체와 디스플레이 제조 공정에서 발생하는 오염 물질을 제거하는 데 사용됩니다. 디바이스이엔지는 오염 제어 기술을 기반으로 고성능, 고신뢰성 Strip 장비를 개발하고 생산하고 있습니다.
디바이스이엔지의 Strip 장비는 Rigid와 Flexible OLED 디스플레이, 메모리, 시스템 LSI 반도체 제조 공정에 널리 사용되고 있습니다. 디바이스이엔지는 고객의 다양한 요구 사항에 맞게 맞춤형 제품과 솔루션을 제공합니다.
| 디바이스이엔지의 주요 제품 | ||
|---|---|---|
| 제품 | 용도 | 특징 |
| Strip 장비 | 반도체와 디스플레이 제조 공정에서 발생하는 오염 물질 제거 | 고성능, 고신뢰성 |
| 오염 제어 장치 | 반도체와 디스플레이 제조 공정에서 발생하는 오염 물질 제거 | 고효율, 저소비 |
| 프로세스 솔루션 | 반도체와 디스플레이 제조 공정 최적화 | 고생산성, 저비용 |